液體冷卻系統 LTD
利用液體循環方式冷卻對於較薄之平板狀樣品有極佳之溫控能力
Peltier冷卻系統 PTD
可控制儀器之升溫及降溫,具快速升降溫速率(60 K/min)溫度範圍為-40℃~200℃
電子式冷卻系統 ETD
電子式溫控溫度範圍可達-130℃~400℃適用於高分子之應用
對流冷卻系統 CTD
具對流Chamber溫度範圍可達-150℃~600℃最高可option至1000℃亦可進行DMTA量測 (Film Tension及Bar Torsion模式)